全国销售与服务热线0510-83292682
新闻动态
news
>新闻动态<
点击展开目录
>联系我们<

地 址:无锡市钱桥盛峰村盛峰工业园
电 话:0510-83292682
传 真:0510-83297986
销售部:18018390801
18018390805 15720680399
网 址:www.wxytqt.com
邮 箱:sales@wxytqt.com

当前位置:首页>新闻动态
电子级大宗气体及其应用
作者:admin阅读:1783
电子级大宗气体是指用于制造半导体生产的大宗气体,包括氮气、氢气、氩气、氦气、氧气和二氧化碳,那么它们在半导体制造中的主要应用都是什么呢?以下内容来源于联华林德,谢谢!

气体名称
应用
氩气
Ar用于等离子沉积和蚀刻工艺的工厂中,还可用于深UV光刻激光器中半导体芯片的最小特征的图案上。液化氩气的液滴还被越来越多的用于清洗最小,最脆弱的芯片结构中的碎屑。
二氧化碳

CO2 可用于支持先进的浸没光刻,专用低温清洗应用以及DI(去离子水)处理。

氦气

He是第二轻的元素和最冷的液体,用于电子制造中的冷却,等离子处理和泄漏检验。

氢气

由于更大的工厂和更高的工艺强度需求,H₂的使用量正在增加。它用于硅和硅锗的外延沉积和表面处理。随着EUV(极紫外线)的转变,氢气的需求量将继续增长。

氧气

O₂用于在蚀刻中产生氧化物层。现场可提供杂质少于10ppb的超纯液态氧(LOX)且无需外部净化器。

氮气

N₂是目前半导体制造中使用最多的气体。它用于吹扫真空泵,排放系统,还可以用来做为一种工艺气体。在大型的,先进的工厂,氮气的消耗量可达每小时5万立方米,这使得工厂需要成本效益好,低能耗的现场氮气发生器。